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天合光能获得实用新型专利授权: "减反射膜及太阳能电池"
日期:2024-05-16   [复制链接]
责任编辑:sy_huamengqi 打印收藏评论(0)[订阅到邮箱]
企查查数据显示,天合光能新获得一项实用新型专利授权,专利名为“减反射膜及太阳能电池”,专利申请号为CN202322528346.6,授权日为2024年5月14日。


专利摘要显示,本实用新型涉及一种减反射膜及太阳能电池。上述减反射膜包括依次层叠设置的氮化硅层、氮氧化硅层以及氧化硅层,氮化硅层、氮氧化硅层和氧化硅层的折射率依次递减,并且控制氮化硅层、氮氧化硅层和氧化硅层的厚度之比为(30~50)∶(15~25)∶(25~35),相较于传统的氮化硅减反膜,能够降低光反射率。上述减反射膜可设置在电池片基体的正面和/或背面上,其中,氮氧化硅层最靠近于电池片基体,氮氧化硅层位于氮化硅层远离电池片基体的一侧,氧化硅层位于氮氧化硅层远离氮化硅层的一侧。上述减反射膜能够提升太阳能电池的光电转换效率。上述减反射膜设置在太阳能电池的背面时,能够更好地提升背面效率,提升双面率。

原标题:天合光能获得实用新型专利授权: "减反射膜及太阳能电池"
 
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来源:国际能源
 
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